报告称中国已储备343台浸没式DUV光刻机 或具备持续推进7纳米芯片生产能力

一份最新研究报告显示，尽管先进EUV光刻机出口受到严格限制，中国大陆晶圆制造企业近年来持续采购浸没式DUV光刻设备，并已建立起相当规模的先进光刻能力储备。研究认为，这些设备足以支撑一定规模的7纳米级芯片生产，并可能削弱现有出口管制措施的部分效果。 阅读全文